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石川 法人; 知見 康弘; 黒田 直志*; 岩瀬 彰宏; 神原 正*
Phys. Scr., T80(B), p.559 - 561, 1999/00
被引用回数:3 パーセンタイル:33.42(Physics, Multidisciplinary)高速イオン照射による電子励起が欠陥生成におよぼす効果を調べるため、高温超伝導体と鉄に高速イオンを照射し、電気抵抗率変化を調べた。その結果、どちらの材料についても、照射効果は、電子的阻止能に依存するようにみえるが、それだけでなく入射イオンの速度にもよることがわかった。
鈴木 雅秀; 鬼沢 邦雄; 木崎 實
JAERI-Research 94-015, 74 Pages, 1994/09
不純物元素の銅含有量の少ないA533B鋼について、照射脆化特性に関し、JMTRを用い照射速度ならびに照射温度依存性の観点から調べ、以下のことが判明した。中性子束が10から10n/cm(E1MeV)の範囲では、照射速度効果は余り大きくない。照射温度の低下に伴い、照射による遷移温度の上昇量、降伏応力の増加量は共に大きくなり、その割合はそれぞれ、1C/Cおよび0.8MPa/Cとなる。この他、低銅圧力容器鋼材の脆化に及ぼす影響因子について議論した。